„Intel“ koreguoja savo gamybos įrangą, kad 10 nm lustų projektavimo ir gamybos pažanga galėtų vykti per trumpesnį laiką. Dabartinis gamybos linijų modelis tęsis iki lapkričio, bet nuo to laiko trys darbo kryptys pasidalins pažanga kuriant lustus.
Šis gamybos pokytis sutampa su „Intel“ gamybos ir technologijos vadovo Sohailo Ahmedo pakeitimas, kuris paliks įmonę išėjęs į pensiją lapkričio pabaigoje. Sohailas Ahmedas paliks šį vaidmenį, užėmęs dabartinę padėtį 2016 m.
Žinome naujienas paskelbus Oregonian. Šis straipsnis atskleidžia gamybos sistemos pokyčius trijuose pogrupiuose: technologijos, gamybos ir tiekimo grandinės. Šia prasme atsakingi žmonės, kurie užims šias pareigas, yra: Mike'as Mayberry'as, technologijos srityje. Gamybai vadovaus Ann Kelleher, turinti pagalbininkės Ahmedo scenoje patirties. Tiekimo dalį koordinuos Randhir Thakur. Visa ši sritis bus atsakinga ir koordinatorė Venkata Renduchintala, šiuo metu „Intel“ inžinerijos direktorius ir vyresnysis vadovas.
Bendrovei kainuos daugiau, nei tikėtasi, perėjimas prie lustai nuo 14 iki 10 nm. Prognozių vėlavimai buvo pastovūs, tiekiant kelis vienetus ir turint keletą variantų. Pirmasis „Intel“ pranešimas apie 10 nm mikroschemų klientams pateikimą buvo paskelbtas 2016 m., Kai baigsime 2018 m. Dabartinė prognozė yra 2019 m, tačiau nenurodant daugiau konkrečios datos.
Tarp galimų „Intel“ problemų ji išgyvena paklausą, viršijančią gamybos pajėgumus, o tai būtų paskatinusi „Intel“ perduoti mikroschemų gamybą TSMC. Vietoj to, atrodo, kad pastarasis jį lenkia 7 nm mikroschemų gamyba dabartiniams „iPhone“ telefonams. Privalumas naudojant 10 nm arba 7 nm mikroschemas yra mažesnis suvartojimas, žemesnė temperatūra ir našumo palaikymas.
